UV (<420nm) DMD
为增材制造和光刻实现精确的高通量光控制
我们的紫外数字微镜器件 (DMD) 可为需要精度和可重复性的工业工艺提供高分辨率、高通量光控制。这些器件针对低至深度紫外光谱的波长进行了优化，支持直接成像、3D 打印和半导体光刻等应用。我们的器件将光学效率与可扩展设计相结合，帮助工程师在生产环境中实现更快的工作流程、更清晰的特性和长期可靠性。
为什么选择 TI DLP 紫外 DMD？
高速和吞吐量
一次打印或曝光多达数百万个像素。这些产品具有数据加载灵活、效率高、更新速度快等特点。
准确度和精度
精确的像素控制、多位曝光和聚焦光学元件可实现低至亚微米级的可重复、高精度曝光。
可靠的 MEMS 技术
在紫外 (<420nm) 波长下可靠运行，无需更换。
适用于工业创新的 DLP 技术
推动数字化制造领域的创新
采用 DLP 技术的数字成像可替代基于掩模的方法。DMD 可用作可编程光掩模，提供快速、高分辨率、可扩展且精确的打印、引导光图形以曝光光敏材料。消除掩模可降低材料成本、缩短掩模制造时间、省去掩模库存管理，并加快开发速度。
高分辨率和高速度有助于快速更改图形和即时校正。这些优势可以有效扩展，从而提高产量并实现面板级生产。DLP 直接成像支持 PCB 制造、平板显示器修复、激光打标、先进封装和其他曝光应用。
采用 DLP 技术的高分辨率、高速 3D 打印
适用于 3D 打印应用的 TI DLP 技术可使用数字微镜器件 (DMD) 投射 2D 结构光图形，从而固化光敏树脂或激光烧结粉末材料。与激光等逐点方法相比，通过并行曝光整个层，DLP 技术可提供更快的打印速度和更高的分辨率。
DLP 解决方案在广泛的光谱范围内提供可编程光控制，可为各种增材制造工艺提供灵活性。高光学效率、精确的像素放置和可重复精度可实现精细的特征分辨率、平滑的表面光洁度，以及从快速原型制作到生产级 3D 打印的可靠扩展。
针对 DLP DMD 窗口的波长透射率考虑因素 (Rev. C)
使用用于 UVA 区域的 TI DLP® 技术进行系统设计的 注意事项 (Rev. B)
了解特色应用
设计快速、准确、可靠的桌面树脂 DLP 3D 打印机
DLP 技术集合了快速打印、分辨率和可靠性等出色性能，使用该技术的器件现可满足经济实用型桌面应用的尺寸和设计要求。
DLP 3D 打印机广泛用于快速原型设计、牙科应用、铸造、定制产品、配件和消费类应用。
DLP 3D 打印技术的优势：
- 高分辨率
- 全层曝光
- 像素精确的聚焦投影
- 可靠的 MEMS 技术
特色资源
- DLP301S – 0.3 英寸、WQHD、大功率、近紫外 DLP® 数字微镜器件 (DMD)
- DLP6500FYE – 0.65 英寸 1080p s600 DLP® 数字微镜器件 (DMD)
适用于 DLP SLA 和 SLS 工业增材制造的 DLP 3D 打印技术
适用于增材制造的 DLP 技术使制造商能够缩短设计周期，更快地进行原型调整，并打印量产器件。
对于 DLP 立体光刻 (SLA) 打印机，液态树脂通过曝光硬化；对于 DLP 3D 打印机选择性激光烧结 (SLS) 系统，细粉末通过激光热能熔合在一起。
- 高分辨率微镜阵列可实现低于 1μm 的分辨率。
- 扩展了所支持的波长范围 (355 - 2500nm)
- 可支持各种聚合物、树脂、烧结粉末和其他构建材料。
特色资源
- DLP9000 – 0.9 英寸 WQXGA DLP® 数字微镜器件 (DMD)
- DLP6500FLQ – 0.65 英寸 1080p Type-A DLP® 数字微镜器件 (DMD)
- DLP9500 – 0.95 英寸 1080p DLP® 数字微镜器件 (DMD)
- DLPLCR90EVM – DLP® 0.90 英寸、WQXGA、Type A 数字微镜器件 (DMD) 评估模块
- DLPLCR95EVM – DLP9500 DMD 评估板
采用 DLP 技术的直接成像
DLP 技术提供高速和高分辨率光图形以曝光光阻膜和其他光敏材料，并且无需使用接触层。这降低了材料成本，提高了生产速度，并能够快速进行图形更改，动态校正 DLP 直接成像可实现 PCB 制造、平板显示器维修、激光打标和其他曝光系统。
DLP 技术在数字直接成像方面的优势：
- 扩展了所支持的波长范围 (355 - 2500nm)
- 与多种光刻胶和涂料兼容
特色资源
- DLPLCR90EVM – DLP® 0.90 英寸、WQXGA、Type A 数字微镜器件 (DMD) 评估模块
- DLPLCR95UVEVM – DLP9500UV DMD 评估板
- 采用直接成像平板印刷技术打印出富于创新的未来 – 技术文章
- 针对 DLP DMD 窗口的波长透射率考虑因素 (Rev. C) – 应用手册
UV (<420nm) DMD 设计与开发
研究适合您的应用的芯片组，使用评估模块快速对设计进行原型验证，下载最新的可用软件，选择光学模块制造商，通过在线工程支持解决您的设计问题，并使用第三方设计和开发生态系统来加快将您的解决方案推向市场。
使用这些带有技术文档的强大评估模块 (EVM) 开始评估您的应用的数字微镜器件 (DMD) 和控制器
下载适合您的 DLP 控制器的固件 (FW)、软件开发套件 (SDK)、图形用户界面 (GUI) 或应用程序编程接口 (API)
选择现成光学模块（包括数字微镜器件 (DMD)）的制造商，加快产品上市速度
我们的工程师可为您提供快速可靠的技术支持，他们将回答您的技术问题并共享知识以解决您的设计问题
与各种设计和开发生态系统第三方合作，提供光学模块、设计服务以及专业软件或元件