DLPLCRC410EVM
DLPLCRC410 评估模块
DLPLCRC410EVM
概述
DLPLCRC410EVM 是一个评估平台,可与另外五个基于 DMD 的 EVM 配对使用,用以展示光刻、3D 打印(SLS 和 SLA)、机器视觉、打标和编码等应用的先进光控制。此 EVM 可评估客户新光源、光学元件、算法和曝光过程,从而加快潜在的 DLP 技术评估过程,缩短客户学习周期并提高产品上市速度。
特性
- 5 个不同 DMD 之一的光控制
- 二进制图形速率高达 32kHz
- 灰度图形速率高达 1.9kHz
- 400Mhz 时钟速率下的 2xLVDS DDR 输入数据接口
- 支持对 DMD 行的随机行寻址
- 不包含电源
紫外产品 (< 400nm)
开始使用
- 订购适用 DMD EVM、控制器 EVM DLPLCRC410EVM 及适用电源
- 阅读 DLP Discovery 4100 用户指南
- 下载 DLPC133 GUI 和 DLPC134 软件
- 下载 DMD EVM 和控制器 EVM DLPLCRC410EVM-DF 设计文件
立即订购并开发
DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 评估模块
DLPC104 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI
DLPC104 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI
产品
近紫外产品(400nm 至 420nm)
硬件开发
评估板
光学模块
发布信息
DMD-DIFFRACTION-EFFICIENCY-CALCULATOR — Calculator helps model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency
DMD-DIFFRACTION-EFFICIENCY-CALCULATOR — Calculator helps model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency
产品
≥ 0.47 英寸阵列产品
≤ 0.47 英寸阵列 pico 产品
紫外产品 (< 400nm)
可见光产品(420nm 至 700nm)
光谱分析和光纤网络产品
车外照明和投影产品
近紫外产品(400nm 至 420nm)
显示产品
近红外产品 (> 700 nm)
多通道 IC (PMIC)
硬件开发
评估板
开发套件
光学模块
发布信息
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Copyright © 2024 Texas Instruments Incorporated - http://www.ti.com/
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Product name: DMD Diffraction Efficiency Calculator
Version: 1.0.0.0
Date: May 2024
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DESCRIPTION
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The DMD Diffraction Efficiency Calculator is used to help customers understand how to model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency with their specific DMD input parameters and will be modeled to the customers specific design.
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REVISION HISTORY
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* Initial release
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RESTRICTIONS
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* Tested on Windows 10.
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CONTACT US
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At http://e2e.ti.com/
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DLPC103 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code
DLPC103 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code
产品
近紫外产品(400nm 至 420nm)
硬件开发
评估板
光学模块
发布信息
DLP-OPTICAL-DESIGN — DLP-OPTICAL-DESIGN-GUIDELINES
DLP-OPTICAL-DESIGN — DLP-OPTICAL-DESIGN-GUIDELINES
产品
近紫外产品(400nm 至 420nm)
≥ 0.47 英寸阵列产品
≤ 0.47 英寸阵列 pico 产品
紫外产品 (< 400nm)
可见光产品(420nm 至 700nm)
光谱分析和光纤网络产品
车外照明和投影产品
显示产品
近红外产品 (> 700 nm)
多通道 IC (PMIC)
硬件开发
评估板
开发套件
光学模块
发布信息
The DLP optical design guidelines presentation provides a comprehensive overview of the guidelines specific to designing an optical system with DLP Products and will help enable customers in their design process.
DLPC133 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI version 2.0
DLPC133 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI version 2.0
硬件开发
评估板
光学模块
发布信息
DLPC134 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code version 2.
DLPC134 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code version 2.
产品
近紫外产品(400nm 至 420nm)
硬件开发
评估板
光学模块
发布信息
设计文件
技术文档
类型 | 标题 | 下载最新的英文版本 | 日期 | |||
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EVM 用户指南 | DLP® Discovery™ 4100 开发平台 (Rev. C) | PDF | HTML | 英语版 (Rev.C) | PDF | HTML | 2024年 8月 21日 | |
证书 | DLPLCRC410EVM EU Declaration of Conformity (DoC) | 2023年 7月 14日 | ||||
应用手册 | Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E) | 2019年 12月 17日 | ||||
白皮书 | High-power NIR laser system benefits with TI’s DLP® technology | 2018年 12月 12日 | ||||
用户指南 | Discovery 4100 APPSFPGA PGen Design (Rev. A) | 2018年 12月 4日 | ||||
用户指南 | DLP Discovery 4100 Controller Board API Programmer’s Guide (Rev. A) | 2018年 12月 3日 | ||||
应用手册 | DMD 101: Introduction to Digital Micromirror Device (DMD) Technology (Rev. B) | 2018年 2月 23日 | ||||
应用手册 | System Design Considerations Using TI DLP® Technology in UVA (363 – 420 nm) (Rev. B) | PDF | HTML | 2015年 7月 15日 | |||
应用手册 | 针对 DLP DMD 窗口的波长透射率考虑因素 (Rev. C) | 最新英语版本 (Rev.E) | 2014年 12月 10日 | |||
应用手册 | System Design Considerations Using TI DLP Technology Down to 400 nm | 2014年 11月 12日 | ||||
应用手册 | DMD 101: 数字微镜器件 (DMD) 技术介绍 (Rev. A) | 最新英语版本 (Rev.B) | 2014年 9月 3日 |